半導體先進製程控制專家

『在超高精度化&超高速化上的挑戰做您的神隊友』
「獨家演算法有效高速控制升溫及發揮節能效果」
「全球各大設備商與用戶實績豐富」

現在的精度和速度能夠存活在市場上嗎?

隨著半導體的集積度之高密度化、高精度化發展,些微的溫度變化對品質的影響越來越大。注意到這點的企業,企圖以超高精度或超高速的控制,來提升品質或生產力,以做出區隔差異。

超高精度的挑戰

在半導體製程的光刻步驟中,我們知道些微的溫度變化會影響晶圓製造。因此,腔體(Chamber)內必須維持極高精度的溫度穩定。

過去,溫度的穩定性在1℃內即可,但現在要求高精度標準低於0 01℃。因應現在市場的需求,已開發了更高精度的溫度控制器。

本公司也開發、販售指示分解能為1/1000℃的溫度控制器。透過超精密的溫度量測、控制,您也許能察覺到以往從未察覺的現象。

超高速的挑戰

另外,在半導體製程的成膜步驟中,追求晶圓的加熱處理的高速化。不只為了要抑制不純物的變化等,以提高品質,還期望能透過縮短處理時間,來提升處理量。

在高速升溫的情況下,現場常因過衝量等溫度過高造成加熱器故障。

azbil獨家演算法能有效高速控制升溫,並達成節能效果。

azbil在半導體的先進製程中,在全球都有個大設備商與用戶的優良實績。從晶圓製造、長晶、拉晶,前段製程的光阻塗佈、蝕刻。晶圓時的成膜蒸鍍、濺鍍,到後段封裝,測試製程的封膠、焊線,以及廠務端的廢棄廢液除害系統,都有azbil的改善實績。

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