半導體先進製程控制專家

• 目 錄

• 現在的精度和速度能夠存活在市場上嗎？

• 超高精度的挑戰

• 超高速的挑戰

• 適用的機種：azbil全系列PID控制器

隨著半導體的集積度之高密度化、高精度化發展，些微的溫度變化對品質的影響越來越大。注意到這點的企業，企圖以超高精度或超高速的控制，來提升品質或生產力，以做出區隔差異。

在半導體製程的光刻步驟中，我們知道些微的溫度變化會影響晶圓製造。因此，腔體（Chamber）內必須維持極高精度的溫度穩定。

過去，溫度的穩定性在1℃內即可，但現在要求高精度標準低於0 01℃。因應現在市場的需求，已開發了更高精度的溫度控制器。

本公司也開發、販售指示分解能為1/1000℃的溫度控制器。透過超精密的溫度量測、控制，您也許能察覺到以往從未察覺的現象。

另外，在半導體製程的成膜步驟中，追求晶圓的加熱處理的高速化。不只為了要抑制不純物的變化等，以提高品質，還期望能透過縮短處理時間，來提升處理量。

在高速升溫的情況下，現場常因過衝量等溫度過高造成加熱器故障。

azbil獨家演算法能有效高速控制升溫，並達成節能效果。

azbil在半導體的先進製程中，在全球都有個大設備商與用戶的優良實績。從晶圓製造、長晶、拉晶，前段製程的光阻塗佈、蝕刻。晶圓時的成膜蒸鍍、濺鍍，到後段封裝，測試製程的封膠、焊線，以及廠務端的廢棄廢液除害系統，都有azbil的改善實績。